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失效分析
服务项目 / 失效分析 / 物性分析 / 剖面、晶背研磨
剖面、晶背研磨
项目描述
快速的样品制备方式之一,利用砂纸或钻石砂纸,搭配研磨头作局部研磨(Polishing),加上后续的抛光,可处理出清晰的样品表面。
提供样品从背面进行研磨(晶背研磨,Backside Polishing),将基材磨至特定的厚度后再进行抛光。剖面、断面研磨与晶背研磨(Backside Polishing),都是为了可以衔接后续的分析检测。
研磨(Polishing)基本流程
切割:利用切割机裁将样品裁切成适当尺寸;
冷埋:利用混合胶填满样品隙缝,增强样品之结构强度,避免受研磨应力而造样品毁损;
研磨:样品以不同粗细之砂纸 (或钻石砂纸),进行研磨;
抛光:于绒布转盘上加入适当的抛光液,进行抛光以消除研磨所残留的细微刮痕。
应用范围
芯片产品,如覆晶封装( Flip Chip)、铝/铜制程结构、C-MOS Image Sensor;
PCB/PCBA等各种板材或成品;LED成品。
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